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在發(fā)展中求生存,不斷完善,以良好信譽(yù)和科學(xué)的管理促進(jìn)企業(yè)迅速發(fā)展01平板顯示行業(yè)測量介紹
02平板顯示行業(yè)的量測意義
03平板顯示行業(yè)的測量解決方案
01 平板顯示行業(yè)測量介紹
平板顯示器件于20世紀(jì)60年代出現(xiàn),主要包括液晶顯示器、發(fā)光二極管、等離子顯示板、電致發(fā)光顯示器等。目前液晶顯示LCD(Liquid Crystal Display)與有機(jī)電致發(fā)光顯示OLED(Organic Light-Emitting Diode)為平板顯示行業(yè)主要顯示技術(shù),占據(jù)行業(yè)絕大部分產(chǎn)值。
檢測是面板生產(chǎn)過程的必要環(huán)節(jié)。面板顯示檢測的作用是在面板顯示器件的生產(chǎn)過程中進(jìn)行光學(xué)、信號、電氣性能等各種功能檢測,發(fā)現(xiàn)制程中的缺陷,避免產(chǎn)品流片至后段造成更大損失。以市占率最大的LCD為例,平板顯示器件主要分為彩膜Color Filter(CF)、陣列 (Array)、成盒(Cell)和模組(Module)四個制程,生產(chǎn)制程中均需要相應(yīng)的檢測。
02平板顯示行業(yè)的量測意義
在CF和Array制程中,成膜質(zhì)量的好壞直接關(guān)系到產(chǎn)品性能和合格率。以CF制程為例,主要由黑色矩陣(Black Matrix)、彩色光阻(RGB)、平坦層(Overcoat)、支撐柱(Photo Spacer)、配向膜(Polyimide Film)組成,結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示。
 
圖1 CF側(cè)結(jié)構(gòu)示意圖
CF制程各膜層的光學(xué)性能和膜厚,與TFT-LCD的亮度(出光效率)、對比度等產(chǎn)品光學(xué)性能與直接相關(guān)。黑色矩陣BM(Black Matrix),其主要作用是隔絕RGB色阻防止混色,以及防止漏光,因此BM材料要求透過率低。制作BM的材料一般有Cr、CrOx及黑色樹脂等。RGB是顯示的三原色,RGB色阻用于組成和顯示所有其他顏色,如圖2所示。當(dāng)白光照射時,色阻會反射單色光(RGB),色阻材料會吸收其余波段的光,形成所需顏色。PI配向膜是TFT-LCD顯示屏的關(guān)鍵材料,該材料在成盒(Cell)工段被涂覆在基板與彩膜上,通過摩擦配向或光配向后,用以協(xié)助液晶分子按特定方向排列。這種結(jié)構(gòu)一般具有多軸光學(xué)性質(zhì),因此表征需要考慮到光學(xué)各向異性。對這些膜層的光學(xué)參數(shù)和厚度進(jìn)行快速、非破壞、準(zhǔn)確的量測能有效提高平板顯示器件的產(chǎn)品性能和合格率,具有重要的意義。
 
圖2 RGB三原色
03平板顯示行業(yè)的測量解決方案
實(shí)物展示  | 
橢圓偏振光譜法是一種物理測量方法,即使用橢偏儀(SE)來獲取薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)。具有無損傷樣件、靈敏度高和量測速度快等優(yōu)點(diǎn),可精確地表征介質(zhì)膜(如SiOx、SiNx等)、優(yōu)異光電性能的氧化銦錫(ITO)、聚酰亞胺(PI)以及非晶硅(a-Si)等單層或多層薄膜的膜厚及材料的光學(xué)特性(如折射率、組分、各向異性和均勻性),是一種可以滿足以上量測需求的解決方案。
 
型號  | ME-Mapping  | 
光斑大小  | 大光斑:2-4mm  | 
測量光譜  | 16*16階穆勒矩陣  | 
波段  | 380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-2500nm)  | 
單次測量時間  | 1-8s  | 
入射角  | 65°  | 
找焦方式  | 自動找焦  | 
Mapping行程  | XY: 200*200mm XY: 300*300mm  | 
支持樣件尺寸  | 2寸-8寸(可擴(kuò)展至12寸)  | 
產(chǎn)品優(yōu)勢  | 集成激光測距儀找焦、多尺寸自動Mapping,最佳探測光強(qiáng)自動變檔切換,圖像識別與定位,一鍵生成報告等功能,極大的提升設(shè)備智能便利化程度。  | 
 
型號  | SE-VM-L  | 
光斑大小  | 微光斑:200μm  | 
測量光譜  | 16*16階穆勒矩陣  | 
波段  | 380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-2500nm)  | 
單次測量時間  | 1-8s  | 
入射角  | 手動變角45-90°,5度間隔°  | 
找焦方式  | 手動找焦  | 
支持樣件尺寸  | 2寸-8寸  | 
產(chǎn)品優(yōu)勢  | 高性價比光學(xué)橢偏測量解決方案,緊湊集成化,人機(jī)交互設(shè)計,使用便捷。  | 
樣件膜層結(jié)構(gòu)和實(shí)測數(shù)據(jù)  | 
一、黑色矩陣BM
對玻璃基底單層BM膜層進(jìn)行建模測量,其結(jié)構(gòu)示意圖見圖3。
圖3 單層BM膜層結(jié)構(gòu)  | 
黑色矩陣BM的橢偏光譜擬合結(jié)果如圖4所示,使用橢偏建模軟件仿真得到的透過率如圖5所示,滿足工藝預(yù)期。
 
圖4 Glass-BM橢偏光譜擬合圖  | 
 
圖5 仿真BM透過率曲線  | 
二、色阻層RGB
對玻璃基底單層R色阻進(jìn)行建模測量,其結(jié)構(gòu)示意圖見圖6。
圖6 單層R色阻膜層結(jié)構(gòu)  | 
R色阻的擬合結(jié)果如圖7所示,測量橢偏參數(shù)與仿真參數(shù)匹配度高,GOF>0.95。其透過率擬合結(jié)果如圖8所示,實(shí)測與建模仿真得到的透過率一致。
 
圖7 Glass-R橢偏擬合光譜曲線  | 
 
圖8 Glass-R透過率擬合曲線  | 
對樣品進(jìn)行多點(diǎn)測量,R色阻的厚度分布如圖9所示,與參考一致,滿足預(yù)期。
 
圖9 Glass-R薄膜wafermap圖  | 
三、配向膜PI
對Si或者玻璃基底的單層配向膜PI進(jìn)行建模測量,其結(jié)構(gòu)示意圖見圖10。
圖10 單層PI膜層結(jié)構(gòu)
配向膜PI的橢偏光譜擬合結(jié)果如圖11所示,測量橢偏參數(shù)與仿真參數(shù)匹配度高,GOF>0.95,其nk各項(xiàng)異性表征如圖12所示。
 
圖11 配向膜橢偏光譜擬合曲線  | 
 
圖12 PI膜nk各項(xiàng)異性曲線  | 
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