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首頁-產(chǎn)品系統(tǒng)-FTIR系列-IRE200-IRE-200 膜厚測試儀
簡要描述：光學(xué)薄膜測厚儀,IRE-200是一款超高精度的外延層厚度測量設(shè)備，利用紅外光譜經(jīng)傅里葉變換進(jìn)行快速分析，主要應(yīng)用于Si、GaAs、InP、SiC、GaN等各類外延片的外延層厚度測量。
產(chǎn)品型號： 更新時間：2025-04-27 瀏覽次數(shù)：3278
廠家實(shí)力
Manufacturer Strength
有效保修
Valid Warranty
質(zhì)量保障
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PRODUCT CATEGORY
詳細(xì)介紹
一、概述
IRE-200光學(xué)薄膜測厚儀是一款超高精度的外延層厚度測量設(shè)備，利用紅外光譜經(jīng)傅里葉變換進(jìn)行快速分析，主要應(yīng)用于Si、GaAs、InP、SiC、GaN等各類外延片的外延層厚度測量。
■ 單拋/雙拋等多種模式選擇支持；
■ 自定義mapping功能；
■ 高檢測速率：Si標(biāo)準(zhǔn)外延片測量25點(diǎn)≤3min；
■ 高檢測精度：≤0.01um 。
二、產(chǎn)品特點(diǎn)
1）設(shè)備采用高性能光源模塊，光源穩(wěn)定性好，信噪比高，覆蓋范圍7800-350cm-1。
2）搭配自主研發(fā)算法軟件，可精準(zhǔn)快速地獲取測量結(jié)果。
3) 搭配自主研發(fā)的mapping運(yùn)動臺，定位精準(zhǔn)、測量速度快。
三、產(chǎn)品應(yīng)用
IRE-200廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中Si、SiC、GaAs、InP、GaN等基底材料上外延層厚度的量測。
SiC EPI量測案例
技術(shù)參數(shù)
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